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二酸化炭素小さいフォーマットの保護貝が付いている産業レーザーの印装置
導入
この機械は輸入された二酸化炭素RFレーザーか国内二酸化炭素レーザーを採用します。輸入された二酸化炭素RFレーザーによいモード、長いワーキング・ライフがあり、安定した出力電力の完全に絶えず工業生産の必要性を満たします。国内二酸化炭素レーザーは維持し安く、易いです。それはいろいろなプロダクトの日付、バッチ番号およびテキストのインク コーディングを取り替えることができます。インク コーディングと比較されて、レーザーの印に高い安全性、汚染、消耗品、安価および簡単な操作のような利点がないし、それは多くの一貫作業生産のために適しています。任意レーザーは要望に応じて利用できます:凝集性ドイツRofin、米国SYNRADまたは国内二酸化炭素等。
技術的な変数
| 機械モデル | RF-HB10 | RF-HB30 | RF-HB60 | RF-HB100 |
| レーザー力 | 10W | 30W | 60W | 100W |
| レーザー | 二酸化炭素 | |||
| 波長 | 1064nm | |||
| Min.character | 0.1mm | |||
| 調整の頻度 | ≤20KHZ | ≤25KHZ | ≤100KHZ | |
| 印の規模 | 110*110mm/175*175mm/260*260mm | |||
| 電力要求事項 | 220V/single/50HZ/8A | 220V/single/50HZ/10A | 220V/single/50HZ/20A | |
| 冷却の方法 | 空冷 | 水冷 | ||
| 印の速度 | ≤7000mm/s | |||
サンプル
