Perfect Laser (Wuhan) Co.,Ltd.

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革切断のための小さいデスクトップ Co2 レーザー彫刻機 40w 水冷保護システム

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省/州:hubei
国/地域:china
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革切断のための小さいデスクトップ Co2 レーザー彫刻機 40w 水冷保護システム

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型式番号 :PEDK-6040
原産地 :中国
最低順序量 :1セット
支払の言葉 :T/T、L/C、Paypal
供給の能力 :1年ごとの5000単位
受渡し時間 :3-7仕事日
包装の細部 :耐航性のあるパッキングかAir-Worthyパッキング
レーザーパワー :40w / 50with 60w
速度を刻むこと :0-600mm/s
切断速度 :0-200mm/s
位置位置の精度を繰り返す :+/-0.0125mm
作業領域 :600x400mm
冷却モード :水冷および保護システム
電圧 :220V (+/-10%)、50Hz
補助装置 :換気扇および排気管を
電力制御のアプローチ :動きの制御システムを結合するレーザー エネルギー
制御ソフトウェア :元の完全なレーザーの彫版及び切断ソフトウェア
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水冷および保護システムの革切断のための小さいデスクトップの二酸化炭素40wレーザーの彫刻家

(モデル:PEDK-6040)

 

★の製品紹介:

 

PEDK-6040は小さい二酸化炭素レーザーの彫版機械である。40Wが、50Wのから選ぶべき60Wレーザーある。それは刻み、切れることができる。刻む速度は600mm/sに達し、切断速度は200m/s.に達することができる。出現は美しく、小さい、仕事域はさまざまな非金属材料の刻み、切断の家DIYのための600x400mm、適している。この種類の機械はまたデスクトップ レーザーの彫版機械、レーザーの刻む機械価格、CNCの刻む機械、小さいレーザーの彫版機械、50wレーザーの刻む機械、40wレーザーの彫版機械と呼ぶことができる。

 

★の製品の機能:

 

1.The出現は普遍的な車輪と小さく、密集しているまったく美しい、動くこと容易な4つのコーナー。

2.Selective電気持ち上がるプラットホーム(持ち上がる範囲:0-400mm)、上部および下のレーザーの彫版機械は異なった厚さの処理の必要性を満たすことができる大きい調整範囲を備えている。

3.Supportいろいろ写実的なフォーマット、BMP、HPGL、JPEG、GIF、TIFF、PCX、札、司令官、DWG、DXF、等。

二酸化炭素レーザーの彫版機械の4.The主な利点は消耗品の、手入れ不要および長続きがする同一証明ではない。

 

★の塗布:

 

小さいレーザーの彫版機械は商標、刺繍、衣類およびずっと他の企業で広く利用されている。食品包装、薬剤、電子部品包む、包装、アルコール集積回路(IC)、ラベル ペーパー、革布、ガラス・セラミックス、樹脂のプラスチック、タケおよび木製品、PCB板、ポリ塩化ビニールの管、等のような非金属企業で使用される材料。

 

★の技術的な変数:
仕事域 600x400mm
レーザー力 40w / 50with 60w
速度を刻むこと 0-600mm/s
速度の切断 0-200mm/s
正確さを置くことを繰り返しなさい +/-0.0125mm
冷却モード 水冷および保護システム
サポート グラフィックのフォーマット BMP、HPGL、JPEG、GIF、TIFF、PCXの札、司令官、DWG、DXF
電圧 220V (+/-10%)、50Hz
機械力 900w
補助装置 換気扇および排気管を
プラットホームの切断 専門の厚化のストリップのワーク テーブル
任意項目 オフライン制御 システム(LCDのスクリーン、USBポート)、電気持ち上がるPlatforの回転式システム
電力制御のアプローチ 動きの制御システムを結合するレーザー エネルギー
制御ソフトウエア 元の完全なレーザーの彫版及び切断ソフトウェア
機械サイズ 1000*750*1150mm

 

★のサンプル:
 
革切断のための小さいデスクトップ Co2 レーザー彫刻機 40w 水冷保護システム
革切断のための小さいデスクトップ Co2 レーザー彫刻機 40w 水冷保護システム
 
★包装及び配達
 

1. プロンプトはまさに日に渡す。

2. よく訓練された、訓練されたパッキング チーム。

3. 売り上げ後のサービス:。プロダクトを受け取った後質問か問題は、私達に連絡して自由に感じる。問題はあなたのためにすぐに解決する。

4. 洗練された、専門の記号論理学の代理店。

 

 

★私達の会社(完全なレーザーCo.、株式会社)

 

完全なレーザーの代表団:顕著な技術的なプラットホーム及び貴重なプロダクトを私達のユーザーに提供するため。

完全なレーザーの中心の連続した原則:

1>は長期基礎の成功のためにあくまで追跡する。

2>は複数の文化環境を支持したり及び造る。

3>はよい計画及び良い操作を用いる各分野にいつ入るか指導的地位を占める。

私達の代表団は市場の私達の顧客の競争状態を改善することである。

 

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