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AlN基板は、優れた耐熱性、高い機械的強度、耐摩耗性、および小さな誘電損失を備えた最も一般的なセラミック基板の1つです。AlN基板の表面は非常に滑らかで、気孔率が低いです。窒化アルミニウムは、アルミナ基板に比べて熱伝導率が高く、約7～8倍です。AlN基板は優れた電子パッケージ材料です。
窒化アルミニウムの薄膜は、高温に耐えるアルミニウムの層です。高温の間、アルミニウムのこの層は材料を保護するのに役立ちます.高圧環境では、不安定になる可能性があります。980℃までの温度範囲に耐えることができます。より低いレベルでは、それは人間にとって有毒である可能性があります.携帯電話にも採用されています。その特性は非常に多様です。
| 10×10mm2 窒化アルミニウム単結晶基板 | |||
| 水晶の仕様 | パラメータ値 | ||
| 直径(mm) | 10x10 | ||
| 厚さ(μm) | 400±50 | ||
| クリスタルフォーム | 2H | ||
| ポリタイプ | {0001}±0.5° | ||
| 表面研磨 | アルミニウム表面：化学研磨（二重研磨はカスタマイズ可能） | ||
| 粗さ |
Al面：≤0.5nm N面（裏面）：≦1.2μm |
||
| 外観 | 正方形 | ||
| 品質等級 | Sグレード(スーパー) | Pグレード(生産) | Rグレード(研究用) |
| HRXRD 半高幅@{0002}(arcsec) | ≤150 | ≤300 | ≤500 |
| HRXRD 半高幅@{10-12}(arcsec) | ≤100 | ≤200 | ≤400 |
| 吸収係数@265nm(cm-1) | ≤50 | ≤70 | ≤100 |
| エッジ除外(mm) | 1 | 1 | 1 |
| インデント | 无 | 无 | 无 |
| チップス | 无 | 无 | ≤3 累積 ≤1.0mm |
| TUA | 90%以上 | ||
| TTV(μm) | ≤30 | ||
| 反り(μm) | ≤30 | ||
| 弓(μm) | ≤30 | ||
|
クラック
|
いいえ、肉眼、強い光 | ||
| 汚染 | いいえ、裸眼、放射線 | ||
| パッケージ | モノリシックウエハーボックス | ||
私たちに関しては
私たちは、さまざまな材料をウェーハ、基板、およびカスタマイズされた光学ガラス部品に加工することを専門としています。これらの部品は、エレクトロニクス、光学、オプトエレクトロニクス、および他の多くの分野で広く使用されています。また、国内外の多くの大学、研究機関、企業と緊密に連携し、研究開発プロジェクト向けにカスタマイズされた製品とサービスを提供しています。私たちの良い評判によって、すべてのお客様と協力関係を維持することが私たちのビジョンです。
よくある質問
Q: あなたは商社ですか、それともメーカーですか?
私たちは工場です。
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通常、在庫がある場合は3～5日です。
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はい、無料でサンプルを提供できますが、運賃はかかりません。
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