10x10mm2は（- 201）支えがないGa2O3の単結晶の基質プロダクト等級半導体材料の単一の磨く厚さ0.6~0.8mm FWHM<350arcsec、Ra≤0.3 nm光電子工学装置、絶縁層、および紫外線フィルターをFe添加したガリウム酸化物（Ga2 O3）は大きいbandgapによる既存の...

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セラミック・サブストラット・ウーファー・UK 96% al2o3 セラミック基板 99.6 アルミナセラミック基板

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