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10*10.5mmの²のC表面Un-doped nタイプの支えがないGaNの単結晶の基質の抵抗 < 0="">
概観
特徴は高い結晶、よい均等性および優秀な表面質である。GaNの基質はLDの適用（すみれ色、青および緑）のために使用される。
なお、開発は力および高周波電子デバイスの塗布のために進歩した。
| 10 x 10.5 mm2支えがないGaNの基質 | ||||
| 項目 | GaN FSC U S10 | GaN FSC N S10 | GaN FS C SIS10 |
注目: |
| 次元 | 10 x 10.5 mm2 | |||
| 厚さ | 350 ±25 µm | |||
| オリエンテーション | M軸線0.35 ±0.15°の方の角度を離れたCの平面（0001） | |||
| 伝導のタイプ | Nタイプ | Nタイプ | Semi-Insulating | |
| 抵抗（300K） | < 0=""> | < 0=""> | > 106 Ω·cm | |
| TTV | ≤ 10のµm | |||
| 弓 | - 10 µmの≤の弓≤ 10のµm | |||
| Gaの表面表面の粗さ | < 0=""> または < 0=""> | |||
| Nの表面表面の粗さ | 0.5の~1.5 μm 選択:1~3 nm （良い地面）; < 0=""> | |||
| 転位密度 | 1つx 105から3つx 106のcm-2から（CLによって計算される） * | |||
| マクロ欠陥密度 | 0のcm-2 | |||
| 使用可能な区域 | > 90% （端の排除） | |||
| パッケージ | 、6 PCSの容器で、窒素の大気の下でクラス100のクリーン ルームの環境で包まれる | |||
中国（GB/T32282-2015）の*Nationalの標準
私達について
私達は電子工学、光学、opto電子工学および他の多くの分野で広く利用されたウエファー、基質およびカスタマイズされた光学ガラスparts.componentsにいろいろな材料を処理することを専門にする。私達はまた多くの国内を密接に使用して、海外大学、研究所および会社はR & Dのプロジェクトに、カスタマイズされた製品とサービスを提供する。それは私達のよい評判によって私達のすべての顧客との協同のよい関係の維持へ私達の視野である。
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支払の <>
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