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1200mm*500mmの自己開発する上限の光学コーティング装置（カスタマイズされて）
働き主義
Atomiclayerの沈殿（ALD）は物質が単一の原子フィルムの形で層基質の層で沈殿させることができる方法である。
指定変数
| モデル | ALD1200-500 |
| コーティングのフィルム システム | AL2O3、TiO2、ZnOおよび等。 |
| コーティングの温度較差 | 正常な温度500℃ |
| コーティングの真空槽次元 | 内部の直径1200mmの高さ500mm （カスタマイズ可能な） |
| 真空槽の構造 | 顧客の必要性に従ってカスタマイズされる |
| 背景の真空 | <5x10>-7mbar |
| コーティング厚さ | ≥0.15nm |
| 厚み制御の正確さ | ±0.Inm |
アプリケーション領域
| MEMS装置 |
| エレクトロルミネセンスの版 |
| 表示 |
| 貯蔵材料 |
| 誘導結合 |
| ペロプスカイトの薄膜電池 |
| 3D包装 |
| 冷光の適用 |
| センサー |
| コイ電池 |
ALDの技術の利点
①前駆物質は大きい区域の均一フィルムの形成を保障する飽和させた化学吸着である。
②多成分nanosheetsおよび混合された酸化物は沈殿させることができる。
③固有の沈殿均等性、容易なスケーリングは、直接量ることができる。
④広く基盤のさまざまな形に適用することができる。