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チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06目標資料の真空メッキ
| 名前 | チタニウムの管ターゲット |
| 標準 |
ASTM B861-06 |
|
輸送のパッケージ |
木の場合の真空パック |
|
起源 |
宝鶏市、シャンシー、中国 |
|
港の渡すため |
西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 |
| サイズ | φ133*φ125*2940 （フランジを含みなさい） |
コーティングの目標資料は基質によってマグネトロンの放出させる複数のアーク イオンめっきまたは適切な科学技術の条件の下で他のタイプの塗装システムのさまざまな機能フィルムを形作ることができる放出させる源である。つまり、ターゲットは高速荷電粒子によって衝撃する目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、出力波形および波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。例えば、蒸発のマグネトロンの放出させるコーティングは異なったフィルム システムを得るために異なった目標資料が（アルミニウム、銅、ステンレス鋼、チタニウム、ニッケル ターゲット、等のような）取り替えることができる蒸発のコーティング、アルミニウム フィルムを、等を熱している（極度の堅く、耐久力のある、anti-corrosion合金のフィルム、等のような）
1) マグネトロンの放出させる主義:
直角磁界および電界は放出させたターゲット（陰極）と陽極の間で加えられ、必須の不活性ガス（通常Arのガス）は高真空の部屋で満ちている。永久マグネット形態高圧電界が付いている直角電磁場を形作る目標資料の表面の250-350ガウス磁界。電界の行為の下で、肯定的なイオンへのArのガス イオン化におよび電子、ターゲットは陰極の近くで磁界によってターゲット表面を高速で衝撃するターゲット表面に飛ぶためにおよび非常に影響を受けたのからのターゲットの行為および働くガス イオン化確率の増加からのある特定の否定的な圧力が、形作る高密度血しょう、ローレンツ力、速度の行為の下のArイオンをあるターゲットの放出させた原子はより高い運動エネルギーと運動量の転換の原則にそしてターゲット表面から基質への飛び、フィルムに集まるため続く。放出させるマグネトロンは2種類に一般に分けられる:放出させるDCのdcの放出させることおよび無線周波数放出させる装置の主義が、放出させる金属で、簡単率の速い。放出させるrfの使用は伝導性材料を放出させることに加えてより広範、でしたり、また非導電材料を放出させることができたりまた反応放出させる酸化物、窒化物および炭化物および他の混合材料のどちらである場合もある。無線周波数の頻度が放出させるマイクロウェーブ血しょうに今日なれば、一般的な電子サイクロトロン共鳴（ECR）マイクロウェーブ血しょう放出させること。
2）タイプのマグネトロンの放出させるターゲット:
金属の放出させる目標資料、コーティングの合金の放出させるコーティング材料、陶磁器の放出させるコーティング材料、ホウ化物の陶磁器の放出させる目標資料、炭化物の陶磁器の放出させる目標資料、フッ化物の陶磁器の放出させる目標資料、窒化物の陶磁器の放出させる目標資料、酸化物の陶磁器ターゲット、セレン化物の陶磁器の放出させる目標資料、ケイ化物の陶磁器の放出させる目標資料、硫化陶磁器の放出させる目標資料、テルル化物の陶磁器の放出させる目標資料、他の陶磁器ターゲット、クロム添加されたケイ素酸化物陶磁器ターゲット（CrSiO）、インジウムの隣酸塩ターゲット（INP）、鉛のヒ化物ターゲット（PbAs）、インジウムのヒ化物ターゲット（InAs）。
主な利点
低密度の高い指定の強さ
注文の要求カスタム化
優秀な耐食性
よい熱抵抗
優秀な低温の性能
よい熱特性
低い弾性率