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チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06 133OD*125ID*2140Lターゲット放出させること
| 項目名前 | チタニウムの管ターゲット |
| サイズ | φ133*φ125*2140 |
| 等級 | Gr2 |
| 包装 | 木の場合 |
| 場所の港 | 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 |
コーティング ターゲットは適切な科学技術の条件の下に放出させるマグネトロンによって基質のさまざまな機能フィルムを形作る源放出させる塗装システムの複数のアーク イオンめっきまたは他のタイプである。簡単に言えば、目標資料は高速荷電粒子の衝突の目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、異なった出力波形および異なった波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。すべての適用工業の間で、半導体工業にターゲット放出させるフィルムのためのほとんどの厳しい品質要求事項がある。今日、12インチの（300鼻血）シリコン チップは作られた。縮まっている幅で相互に連結する。ウエファーの製造業者は大型、高い純度、製造されたターゲットのよりよい微細構造を要求する微粒子要求する、および低い分離を。目標資料の水晶粒子の直径そして均等性は薄膜の溶着速度に影響を与えるキー ファクタとして考慮された。ストレージ技術の面では、高密度の開発および大容量のハードディスクは多数のGMRのフィルムを要求する。CoF~Cuの多層合成のフィルムはGMRのフィルムで今広く利用されている。磁気光学ディスクのために必要とされる開発されるTbFeCoの合金の目標資料はそれ以上まだである。磁気光学ディスクはそれと持っている大きい収蔵可能量、長い耐用年数および繰り返された無接触消去可能な執筆の特徴を作った。
特徴
1. 低密度および高力
2.顧客によって必要なデッサンに従ってカスタマイズされて
3.強い耐食性
4.強い熱抵抗
5.低温の抵抗
6.熱抵抗