多結晶CVDダイヤモンド
化学気相成長（CVD）は、気相または気固界面反応において気体または蒸気状の物質を使用して固相堆積物を生成するプロセスです。低圧条件下で、炭素含有ガスを活性化し、基板（シード結晶）上に過飽和炭素原子を生成し、これが堆積してダイヤモンドに成長します。この方法には、炭素源の活性化と堆積中に一連の化学反応が含まれます。
製品特性
- 金属または非金属添加物なし
- 高硬度と耐摩耗性、容易な加工
- 優れた熱伝導率と全帯域電磁波透過
- 酸およびアルカリ腐食に対する化学的安定性
- カスタマイズサービス利用可能
- 標準仕様には、Φ50.8×0.3mm、Φ50.8×0.4mm、Φ25.4×0.3mm、Φ25.4×0.4mmが含まれ、カスタム寸法も利用可能
製品特性
光学特性
| 有効透過範囲 |
電磁波の全帯域透過 |
| 屈折率 |
2.41@5900A |
物理的特性
| 密度 |
3.52 g/cm³ |
| 音速 |
>16,000 m/s |
機械的特性
| ヤング率 |
>1,000 GPa |
| 硬度（ヌープ） |
>8,000 kg/mm² |
| 破壊靭性 |
5~7 Mpa |
| 破壊エネルギー |
25 J/M |
| 曲げ強度 |
500~1,000 MPa |
| 圧縮強度 |
9 GPa |
| 摩擦係数 |
0.1（鋼に対する相対値） |
