カスタム純粋多結晶CVDダイヤモンドホウ素ドープBDDダイヤモンド2mm - 50mm
製品属性
| 属性 |
値 |
| 生体適合性 |
良好 |
| 耐食性 |
高 |
| ドーピング元素 |
ホウ素 |
| 材料 |
ダイヤモンド |
| 表面粗さ |
低 |
| 耐摩耗性 |
高 |
純粋多結晶ホウ素ドープダイヤモンド（BDD）
ホウ素ドープダイヤモンド（BDD）は、ダイヤモンド成長プロセス中にホウ素を組み込むことによって作成された特殊なダイヤモンド材料です。CVD（化学気相成長）によって製造されたBDD電極は、陽極としてホウ素ドープダイヤモンド膜を使用し、陰極としてチタンまたは同様の材料を使用します。
BDD膜のユニークなsp3結合構造は、以下を含む優れた電気化学的特性を提供します。
- 非常に高い酸素発生電位
- 利用可能な最も広い電気化学的ウィンドウ
- 代替品と比較して低いバックグラウンド電流
- 優れた物理的および化学的安定性
- 低い吸着特性
技術仕様
モデル：CVD多結晶ホウ素ドープダイヤモンド（BDD）
結晶成長プロセス：CVDホウ素ドープ
色：黒
形状：円、正方形、三角形
サイズ範囲：2〜50mm、厚さ：0.1〜0.5〜1.0mm
厚さ公差： < 10%
電位窓（水性）：〜3.0 - 3.5 V
電位窓（有機）：〜5.0 - 7.5 V
静電容量（エッチング後）：〜10 µF cm²
Bドーピングレベル：1.4*10²⁰ cm³（面A）、4.5*10²⁰ cm³（面B）
抵抗率：9 ohm*cm（面B）、15 ohm*cm（面A）
主な利点
- 高導電率と高速電子移動を備えた半金属材料
- 優れた化学的および寸法的安定性
- 非常に低いバックグラウンド電流
- 水電解用の非常に広い電位窓
- UV-Visから遠赤外線までの広い電磁透過窓
- 他の電極材料と比較して低い磁化率
- 優れた生体適合性（sp3ハイブリッド構造）
アプリケーション
BDD電極は、従来の電極と比較して、有機物の分解において優れた効率と低いエネルギー消費量を示します。主な用途は次のとおりです。
- 製薬、農薬、石油化学産業における有機性廃水の処理
- コークス製造、製錬、印刷、染色、製紙プロセス
- なめし、爆発物製造、埋め立て地浸出液処理
- 電気化学センサーおよびバイオセンサーの開発
- エネルギー貯蔵、電気触媒、電気合成アプリケーション
重要なお知らせ： 2つの大きな表面は、後処理により異なる特性を示します。一方の表面は研磨されていますが、もう一方の表面は研磨前にレーザーカットされており、ホウ素ドーピングレベルと導電性に影響します。最適な性能を得るには、使用前に化学エッチングをお勧めします。
