ITOのガラス マグネトロンの放出させるコータ、Ag/Eletronicの表示のためのSiOの層
平面の放出させるターゲットのためのDIN2462ステンレス鋼の管
純粋な希土類酸化物のハフニウム シリンダー餌Hfの放出させる目標資料
99.99%純粋なチタニウム ディスク4n高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット低密度
NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする
モリブデン平面スプッタリング標的
漏れのない半導体メモリーチップ製造のための高電圧ランタンスプッターターゲット
99.6%純度GR1 GR2の円形のチタニウムの放出させるターゲット ハードウェア
抵抗力がある自然な混合の石英ガラスの放出させるターゲット高温
チタンチチアルZr Cr スプッティングターゲットディスク
脈打ったレーザーの沈殿PLDシステムはDC RFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させる
ジルコニウムのSystermの高密度に塗るPVDのための回転放出させるターゲット
真空の放出させるコーティングのモリブデン ターゲット モリブデン ディスクのための円形のモリブデン プロダクト モリブデンの放出させるターゲット
放出させるWチタニウムの金属は半導体の物理的な蒸気ターミナルのための平面の鋼片を目標とする
フィルムのためのインジウムの錫の酸化物ITOのsputtingターゲット
真空メッキのための3N5 99.95%モリブデンの放出させるターゲット
FeitengのマグネトロンのCrの放出させるターゲットOD127*ID458*10
