FeitengのマグネトロンのCrの放出させるターゲットOD127*ID458*10
ジルコニウムのSystermの高密度に塗るPVDのための回転放出させるターゲット
Pvdの真空メッキが付いているタンタルの放出させる目標資料Gr1の酸化チタン
コーティングのための10.2g/Cm3純粋なモリブデンの長方形/円形の版の放出させるターゲット
精密な制御で薄膜堆積のための高純度スプッターターゲットは
抵抗力がある自然な混合の石英ガラスの放出させるターゲット高温
99.6%純度GR1 GR2の円形のチタニウムの放出させるターゲット ハードウェア
脈打ったレーザーの沈殿PLDシステムはDC RFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させる
モリブデン平面スプッタリング標的
真空の放出させるコーティングのモリブデン ターゲット モリブデン ディスクのための円形のモリブデン プロダクト モリブデンの放出させるターゲット
平面の放出させるターゲットのためのDIN2462ステンレス鋼の管
放出させるWチタニウムの金属は半導体の物理的な蒸気ターミナルのための平面の鋼片を目標とする
TZM モリブデン ディスク SGS 医療用化学産業用モリブデン スパッタリング ターゲット
NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする
99.99%純粋なチタニウム ディスク4n高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット低密度
カスタマイズされたアルミニウム薄板金のAlの放出させるターゲット0.2mm 7075
フィルムのためのインジウムの錫の酸化物ITOのsputtingターゲット
