モリブデン平面スプッタリング標的
平面の放出させるターゲットのためのDIN2462ステンレス鋼の管
高純度クロム・クロム・スプッティング・ターゲット・プレートの形状
高い純度のpvdのチタニウムの放出させるターゲット金属ターゲットはカスタマイズした
純粋な希土類酸化物のハフニウム シリンダー餌Hfの放出させる目標資料
抵抗力がある自然な混合の石英ガラスの放出させるターゲット高温
漏れのない半導体メモリーチップ製造のための高電圧ランタンスプッターターゲット
99.99%純粋なチタニウム ディスク4n高い純度のチタニウムの金属の放出させるターゲット低密度
NI 200のニッケルは放出させるターゲット純粋なニッケル合金のニッケル ベースの合金を合金にする
Pvd クロムスプッター用連続真空コーティングライン
Target/Crの放出させるターゲット/Chromeの目標価格を放出させるPvdのクロム
放出させるWチタニウムの金属は半導体の物理的な蒸気ターミナルのための平面の鋼片を目標とする
真空の放出させるコーティングのモリブデン ターゲット モリブデン ディスクのための円形のモリブデン プロダクト モリブデンの放出させるターゲット
3N5 127*458*10mmのクロムの放出させるターゲット版の形
脈打ったレーザーの沈殿PLDシステムはDC RFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させる
真空メッキのための3N5 99.95%モリブデンの放出させるターゲット
99.95%放出させるコーティングのための高い純度のモリブデン ターゲット
