Add to Cart
汚染に敏感な環境向けに精密に設計された、このパーティクル制御 1インチ軽量ガスバルブ は、重要なガス供給システムにおける完全性を保証します。316L-VARステンレス鋼を採用し、<0.5 Ra µm電解研磨仕上げのこの 高純度ガスバルブ は、半導体プロセスガスに対してClass 1/ISO 2のパーティクル規格を達成しています。自己位置合わせ円錐シール設計により、金属同士の接触を排除し、100,000回以上の作動中のパーティクル発生を防ぎます。重要な ラボ用ガスバルブ, VCRスタイルのフェースシールを採用し、1x10⁻⁹ atm-cc/sec Heのヘリウムリークタイト性を実現し、アルシンやシランなどの特殊ガスに対してppbレベルの純度を維持します。非脱落性のPTFEステムシールとゼロデッドレッグ構成は、SEMI F72規格に適合しています。設置中のISO 14644-1 Class 3準拠検証のためのインテグラルパーティクルモニタリングポートが含まれています。
箇条書き:
✓ ナノスケール清浄度: <5 particles>0.1μm/リットル（IEST RP CC001.6準拠）
✓ 気密シール: 1x10⁻⁹ atm-cc/secヘリウムリークレート
✓ 耐腐食性: ASTM A967硝酸法による不動態化
✓ 振動のない動作: 防振ステム設計
✓ ファブ実績: SEMI F72準拠 ラボ用ガスバルブ
適用事例:
半導体クリーンルームでは、技術者がパーティクルカウンターを使用してバルブを設置し、5nmチップ製造のガスライン試運転中に汚染がないことを確認します。
FAQ:
Q: この高純度ガスバルブにはどのようなパーティクル認証が付属していますか？
A: 0.1～5.0μmの粒子分布データを含むIEST-CC0016 Class 1レポート。
Q: あなたの ラボ用ガスバルブ は、有毒ドーパントに対応していますか？
A: はい、SEMI S2カテゴリ1ガス向けに設計されており、完全な材料適合性があります。
Q: プロセスを中断することなく、パーティクルモニタリングを統合できますか？
A: はい、サンプルポートにより、ISO 14644-1準拠のインシチュ検証が可能です。
Q: アウトガス性能は？
A: <1x10⁻⁹ g/cm²/sec TML/CVCM（NASA-STD-6001B準拠）。
Q: 設置汚染管理プロトコルは提供していますか？
A: 詳細なISO 14644-5準拠の設置キットをご利用いただけます。
