MOKE・ウェーファースキャナー (EFEM) ヒステレシスと磁気均一性マップのためのウェーファー測定システム

製品説明:

ウェーハレベルのヒステリシスループ測定装置をご紹介します。これは、この分野の高度な研究開発の要求に応えるために設計された、スピントロニクス計測における最先端のツールです。この革新的な製品は、ウェーハレベルでの磁気特性の正確かつ効率的な測定のための比類のない機能を提供します。

この最先端のウェーハ磁力計の重要な特徴の1つは、その優れたサンプル再現性であり、10 μm 以上の性能レベルを誇っています。この高い再現性レベルは、測定結果の精度と一貫性を保証し、研究者が得られたデータを自信を持って利用できるようにします。

さらに、ウェーハ磁力計には、Φ1 Mm で ±1% 以上の磁場均一性を保証する高度な技術が搭載されています。この優れた磁場全体の均一性により、測定が磁場強度の変動の影響を受けず、より信頼性の高い正確なデータ分析につながります。

テスト効率に関しては、ウェーハレベルのヒステリシスループ測定装置は、±1.3 T で 12 WPH のスループットで優れており、磁気特性の迅速かつ効率的な特性評価を可能にします。200 Mm ウェーハ上で 9 つのサイトを同時に測定できるため、研究者はワークフローを合理化し、生産性を向上させることができます。

研究者は、サンプルサイズの互換性の面でも、ウェーハ磁力計が提供する柔軟性を高く評価するでしょう。この装置は、最大 12 インチのウェーハに対応するように設計されており、フラグメントテストをサポートしているため、さまざまなサンプルタイプとサイズに柔軟に対応できます。

ウェーハレベルのヒステリシスループ測定装置のもう1つの際立った特徴は、0.3 Mdeg (RMS) という印象的なカー角分解能です。この高分解能により、磁気特性の詳細かつ正確な測定が可能になり、研究者はナノスケールでの材料の挙動に関する貴重な洞察を得ることができます。

結論として、ウェーハレベルのヒステリシスループ測定装置は、ウェーハレベルでの磁気特性の正確かつ効率的な測定のための比類のない機能を提供する強力なツールです。その高度な機能、優れた性能、および汎用性により、この装置はスピントロニクス計測の分野で研究を行っている研究者にとって必須のものです。

特徴:

• 製品名: ウェーハレベルヒステリシスループ測定装置
• サンプルサイズ: 12インチ以下に対応、フラグメントテストをサポート
• 磁場均一性: ±1%@Φ1 Mm以上
• サンプル再現性: 10 μm以上
• 磁場: 垂直 ±2.4 T; 面内 ±1.3 T
• 稼働時間: 90%

技術的パラメータ:

アプリケーション:

Truth Instrumentsは、精密で効率的な薄膜磁性ウェーハ検査用に設計された、最先端のウェーハレベルヒステリシスループ測定装置であるWafer-MOKEを紹介します。中国発のこの革新的な製品は、ウェーハ上の磁気特性の測定において優れた性能と精度を提供します。

Truth InstrumentsのWafer-MOKEは、Φ1 mmで±1%を超える優れた磁場均一性を誇り、信頼性と一貫性のある結果を保証します。その磁場分解能は、PID閉ループフィードバック制御により最高レベルであり、正確な測定のために印象的な0.01 MTを達成しています。

テスト効率に関しては、Wafer-MOKEは、±1.3 Tで1時間あたり12ウェーハのテスト速度と、200 mmウェーハ上の9サイト測定で優れています。この高いスループット能力は、迅速かつ正確な測定を必要とする大量生産環境に最適です。

柔軟性を高めるために、Wafer-MOKEはオプションのEFEM機能を備えており、ユーザーは特定の要件に基づいてセットアップをカスタマイズできます。この適応性により、さまざまなウェーハ検査プロセスへのシームレスな統合が保証され、全体的な生産性が向上します。

さらに、Wafer-MOKEのサンプル再現性は優れており、10 μmを超えており、複数のテストで一貫性と信頼性の高い結果を保証します。この信頼性は、品質管理を確保し、厳格な業界標準を満たすために不可欠です。

結論として、Truth Instruments Wafer-MOKEは、MOKEウェーハスキャナーおよび薄膜磁性ウェーハ検査アプリケーションのための究極のソリューションです。その高度な機能、精度、および効率性により、正確かつ迅速なウェーハレベルのヒステリシスループ測定を必要とする業界にとって必須の装置です。