Truth Instruments Co., Ltd.

精度測定による科学革新を推進し,製造産業に信頼性の高い機器を提供

Manufacturer from China
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1 年
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非接触磁気計測用ウェーハースケールヒステリシスループトレーサー

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Truth Instruments Co., Ltd.
シティ:qingdao
省/州:shandong
国/地域:china
連絡窓口:MrAlex TANG
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非接触磁気計測用ウェーハースケールヒステリシスループトレーサー

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モデル番号 :ウェーハ - ミーク
原産地 :中国
支払い条件 :T/T
名前 :ヒステリシスループトレーサー
efem :オプション
テストの効率 :12 wph@±1.3 t /9サイト測定 /200 mmウェーハ
磁場の均一性 :±1%@φ1mmよりも優れています
磁場解像度 :PID閉ループフィードバック規制、0.01 mt
試験機能 :磁気スタック/デバイスの非破壊ヒステリシスループ測定、ヒステリシスループ情報の自動抽出(自由層とピン留め層HC、HEX、M(KERR角度))、およびウェーハ磁気特性分布の迅速なマッピング
サンプルの再現性 :10μmよりも優れています
サンプルサイズ :12インチ以下と互換性があるため、フラグメントテストをサポートしています
稼働時間 :90%
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ウェーハースケールヒステリシストレーサー 非接触磁気計測用

製品説明:

ウェーハレベルヒステリシスループ測定器は、ウェーハレベルでの磁気特性を正確かつ効率的に特性評価するために設計された最先端のツールです。この機器は、品質管理および研究目的で正確で信頼性の高い測定を必要とする業界にとって不可欠です。

この製品の重要な特徴の1つは、10μmを超える優れたサンプル再現性です。このレベルの精度は、一貫性と信頼性の高い結果を保証し、高精度で磁気特性を分析するために不可欠です。

サンプルサイズの互換性に関しては、この機器は汎用性が高く、最大12インチ以下のサンプルをサポートしています。さらに、フラグメントテストにも対応しており、サンプル準備とテスト手順に柔軟性を提供します。

ウェーハレベルヒステリシスループ測定器は、強力な磁場機能を誇り、垂直範囲は±2.4 T、面内範囲は±1.3 Tです。これらの磁場強度は、磁性材料の包括的な特性評価を可能にし、ウェーハレベルの磁気特性評価に理想的なツールとなっています。

利便性と効率性を高めるために、この機器にはEFEM(Equipment Front End Module)がオプションで用意されています。EFEMの統合により、テストプロセスが合理化され、特に高スループットの生産環境において、全体的な生産性が向上します。

テスト効率は、この機器の際立った特徴であり、200 mmウェーハで9サイト測定、±1.3 Tで12 WPH(Wafers Per Hour)のテスト速度を提供します。この高いテストスループットにより、この機器は、迅速で信頼性の高い測定が不可欠な生産ラインMOKE(マグニートー-Optical Kerr Effect)テストに適しています。

特徴:

  • 製品名:ウェーハレベルヒステリシスループ測定器
  • 磁場分解能:PID閉ループフィードバック制御、0.01 MT
  • テスト機能:
    • 磁性スタック/デバイスの非破壊ヒステリシスループ測定
    • ヒステリシスループ情報の自動抽出(自由層およびピン留め層Hc、Hex、M(Kerr角値))
    • ウェーハ磁気特性分布の迅速なマッピング
  • サンプル再現性:10μm以上
  • 磁場:垂直±2.4 T; 面内±1.3 T
  • カー角分解能:0.3 Mdeg(RMS)

技術的パラメータ:

稼働時間 90%
磁場分解能 PID閉ループフィードバック制御、0.01 MT
EFEM オプション
カー角分解能 0.3 Mdeg(RMS)
テスト効率 12 WPH@±1.3 T /9サイト測定/200 mmウェーハ
磁場均一性 ±1%@Φ1 mm以上
サンプル再現性 10μm以上
磁場 垂直±2.4 T; 面内±1.3 T
テスト機能 磁性スタック/デバイスの非破壊ヒステリシスループ測定、ヒステリシスループ情報の自動抽出(自由層およびピン留め層Hc、Hex、M(Kerr角値))、およびウェーハ磁気特性分布の迅速なマッピング
サンプルサイズ 12インチ以下に対応、フラグメントテストをサポート

アプリケーション:

Truth InstrumentsのWafer-MOKEは、さまざまなシナリオで正確なヒステリシスループ測定を行うために設計された最先端の磁気計測ツールです。その優れた機能と高度な特徴により、この機器は、さまざまな製品アプリケーションの機会とシナリオに最適です。

中国発のWafer-MOKEは、比類のない性能と効率を提供するように設計されています。12 WPH@±1.3 T /9サイト測定/200 mmウェーハという高いテスト効率により、迅速かつ正確なテストプロセスが保証され、研究施設、製造工場、学術機関にとって貴重な資産となっています。

この製品の際立った特徴の1つは、±1%@Φ1 mmを超える優れた磁場均一性です。このレベルの精度は、MRAMテストや磁性材料の特性評価など、一貫性と信頼性が求められるアプリケーションに不可欠です。

Wafer-MOKEは、垂直±2.4 T、面内±1.3 Tという強力な磁場容量を誇っています。この柔軟性により、ユーザーは幅広い実験と測定を行うことができ、多様な研究ニーズに対応できます。

0.3 Mdeg(RMS)のカー角分解能を備えたこの機器は、微妙な磁気変動を捉える際に優れた精度を提供します。磁気ドメイン研究や材料分析に取り組む研究者や科学者は、Wafer-MOKEをプロジェクトに不可欠なものと見なすでしょう。

さらに、最大12インチ以下のサンプルサイズとの互換性、およびフラグメントテストのサポートにより、その汎用性と適用性がさらに向上しています。小さなフラグメントまたは大きなウェーハを分析する場合でも、Wafer-MOKEは、包括的な磁気測定に必要な柔軟性を提供します。

結論として、Truth Instruments Wafer-MOKEは、ウェーハスケールMOKEアプリケーションに優れた最先端の製品であり、磁気計測、MRAMテスト、およびさまざまな研究活動に不可欠なツールとなっています。

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